尼康寻求逆势开拓中国光刻机市场

尼康(Nikon)将转变半导体光刻机业务的战略，采用不违反对华出口管制的成熟技术的设备，于2024年时投放新产品，通过寻求逆势开拓中国市场，以实现卷土重来。尼康和佳能曾在1990年代之前主导市场，但在最尖端的极紫外(EUV)设备的开发竞争中败给了荷兰阿斯麦(ASML)。极紫外光刻机在2010年后半期实用化，全世界只有ASML能够生产。调查显示，从2022年的光刻机销量来看，排在首位的ASML的全球市场份额为62%，排在第2位的佳能为31%，尼康排在第3位，仅为7%。（全球企业动态）