日本尼康宣布全新ArF浸没式光刻机：精度小于2.1纳米、价格便宜30％

12月10日消息，尼康宣布，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”，生产效率、套刻精度都会有进一步提升。

据悉， 尼康这款曝光机采用增强型iAS设计，可用于高精度测量、圆翘曲和畸变校正，重叠精度(MMO)更高，号称不超过2.1纳米。

分辨率小于38纳米，镜头孔径1.35，曝光面积为26x33毫米。

对比当前型号， 它的整体生产率可提高了10-15％，创下尼康光刻设备的新高，每小时可生产280片晶圆，停机时间也更短。