耗资3.5亿美元！阿斯麦展出新型“High NA EUV”设备

2月11日消息， 据媒体报道，荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）首次展出一台新型“High NA EUV”光刻机。

阿斯麦表示， 这款设备耗资3.5亿美元（约合人民币25亿元），主要面向英特尔等高端半导体制造商 ，预计今年将出货一部分，但在定制和安装方面仍有工作要做。

据悉，数值孔径是用来衡量光学系统能够收集的光的角度范围，通过增大数值孔径，可以实现更小的分辨率和更高的分辨能力，从而满足微细加工的要求。

从阿斯麦官网所公布的消息来看，他们的高数值孔径极紫外光刻机，将命名为EXE系列。