我国科研团队完成新型光刻胶技术初步验证：为EUV光刻胶开发做技术储备

4月2日消息，据湖北九峰山实验室官微消息， 九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队，支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。

据介绍，该研究通过巧妙的化学结构设计， 以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”， 最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差（SD）极小（约为0.05）、性能优于大多数商用光刻胶。

且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。

作为半导体制造不可或缺的材料， 光刻胶质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。 但光刻胶技术门槛高，市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。